RO-EDI純化水設(shè)備在電子制作全過程中的功效不能小視。電子器件、半導(dǎo)體材料、液晶顯示屏、太陽能發(fā)電工業(yè)化生產(chǎn)在制作過程中，通常必須 應(yīng)用極為純粹的超純水系統(tǒng)。假如純凈水水體達(dá)不上生產(chǎn)工藝流程自來水的規(guī)定或是水體不穩(wěn)定得話，會危害到事后加工工藝的解決實(shí)際效果和使用期限。

在光伏產(chǎn)業(yè)整流管生產(chǎn)制造中，如在其中滲入殘?jiān)?，便會危害電子器件的發(fā)送，從而危害整流管的變大特性及使用壽命，在顯象管和陰極射線生產(chǎn)制造中，其顯示屏內(nèi)腔用噴漆法或離子交換法粘附一層瑩光化學(xué)物質(zhì)，與其配置純凈水中含銅在8ppb之上，便會造成發(fā)亮掉色；鐵元素在50ppb之上便會使發(fā)亮掉色、發(fā)暗、閃爍并會導(dǎo)致汽泡、條跡、透光點(diǎn)等廢殘品。在黑與白顯象管顯示屏生產(chǎn)制造的12個工藝流程中，玻殼清理、沉積、潮濕、洗膜、管頸清理等5個工藝流程需應(yīng)用純凈水，每生產(chǎn)制造一個晶體三極管需工業(yè)純水80kg。

液晶顯示屏的屏面需要純凈水清理和用純凈水配液，如純凈水中有金屬離子、微生物菌種、顆粒等殘?jiān)銜挂壕э@示屏電源電路產(chǎn)生常見故障，危害液晶顯示屏品質(zhì)，造成 損毀、殘品。在晶體三極管、集成電路芯片生產(chǎn)制造中，純凈水關(guān)鍵用以清理單晶硅片，另有小量用以藥水配置，單晶硅片空氣氧化的水蒸氣源，一部分機(jī)器設(shè)備的冷卻循環(huán)水，配置電鍍工藝液等。集成電路芯片的產(chǎn)品品質(zhì)及生產(chǎn)制造良品率關(guān)聯(lián)非常大。

水里的堿土金屬（K、Na等）會使絕緣層膜抗壓欠佳，重金屬超標(biāo)（Au、Ag、Cu等）會使PN結(jié)抗壓減少，III族原素（B、Al、Ga等）會使N型半導(dǎo)體特點(diǎn)惡變，V族素（P、As、Sb等）會使P型半導(dǎo)體特點(diǎn)惡變，水里病菌高溫炭化后的磷（約占灰份的20%~50%）會使P型單晶硅片上的部分地區(qū)轉(zhuǎn)變 為N型硅而造成 元器件特性受到影響。水里的顆粒物（包含病菌）如吸咐在單晶硅片表層，便會造成電路短路或特點(diǎn)下降。因而水的質(zhì)量非常關(guān)鍵。RO-EDI純化水設(shè)備加工工藝，能夠做到超純水系統(tǒng)規(guī)范。